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本發(fā)明公開(kāi)了一種用于大視場(chǎng)X射線(xiàn)相襯成像的X射線(xiàn)源，包括用于發(fā)射電子束的電子源和響應(yīng)于電子束入射而發(fā)射X射線(xiàn)的陽(yáng)極靶，所述陽(yáng)極靶為一體結(jié)構(gòu)的柱體，所述陽(yáng)極靶頂端設(shè)有發(fā)射面，所述發(fā)射面由多個(gè)呈階梯狀排布且相互平行的傾斜發(fā)射面單元組成；相鄰的所述發(fā)射面單元之間的階梯間側(cè)壁與陽(yáng)極靶發(fā)射面之間的夾角α為50°-120°，且該階梯間側(cè)壁與陽(yáng)極靶發(fā)射面的主光軸之間的夾角β為大于等于90°。本發(fā)明提供一種能應(yīng)用在大視場(chǎng)X射線(xiàn)相襯成像中、克服陣列結(jié)構(gòu)陽(yáng)極的視場(chǎng)限制、制造成本低、制作工藝簡(jiǎn)單可靠的用于大視場(chǎng)X射線(xiàn)相襯成像的X射線(xiàn)源。

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